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l阳极层离子源AIS-M:
1、用于磁性材料溅射;
2、束流大,均匀性>95% ;
3、长寿命、无污染;
l阳极层离子源AIS-C:
1、适用于刻蚀;
3、极少阴极溅射;
l阳极层离子源AIS-D:
1、适用于气相沉积;
l阳极层离子源AIS-H:
1、采用HiPIMS放电;
2、离化率高,均匀性>95% ;
3、适用于辅助反应沉积;
椎弓根导针置入导向透视机
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