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高性能离子源系列产品
编号:
名称: 高性能离子源系列产品
领域:
成果形式:
投资额:
案例数:
技术阶段: 概念阶段
合作方式:

方案详述


l阳极层离子源AIS-M:

1、用于磁性材料溅射;

2、束流大,均匀性>95% ;

3、长寿命、无污染;

l阳极层离子源AIS-C:

1、适用于刻蚀;

2、束流大,均匀性>95% ;

3、极少阴极溅射;

l阳极层离子源AIS-D:

1、适用于气相沉积;

2、束流大,均匀性>95% ;

3、长寿命、无污染;

l阳极层离子源AIS-H:

1、采用HiPIMS放电;

2、离化率高,均匀性>95% ;

3、适用于辅助反应沉积;

技术优势

联系方式

客服
075586060912
service@xincailiao.com

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